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納微發(fā)布第三代快速碳化硅MOSFETs, 促進AI數(shù)據(jù)中心功率提升,加快電動汽車充電速度

納微半導體(納斯達克股票代碼:NVTS)正式發(fā)布第三代快速(G3F)650V和1200V碳化硅MOSFETs產(chǎn)品系列,為實現(xiàn)最快的開關速度、最高的效率和功率密度的增進進行優(yōu)化,將應用于AI數(shù)據(jù)中心電源、車載充電器(OBCs)、電動汽車超級充電樁以及太陽能/儲能系統(tǒng)(ESS)。產(chǎn)品涵蓋了從D2PAK-7到TO-247-4的行業(yè)標準封裝,專為要求苛刻的高功率、高可靠性應用而設計。 G3F產(chǎn)品系列針對高速開關性能進行了優(yōu)化,與CCM TPPFC系統(tǒng)中的競爭對手相比,硬開關品質因數(shù)(FOMs)提高了40%。這將使下一代AI數(shù)據(jù)中心服務器電源(PSUs)的功率增加到10kW,每個機架的功率從30kW增加到100-120kW。 G3F GeneSiC MOSFETs 基于納微專有的“溝槽輔助平面柵”技術研發(fā),既擁有優(yōu)于溝槽柵MOSFET的性能,還具備比競爭對手更強的魯棒性、可制造性和成本效益。G3F MOSFETs 同時具備高效和高速的性能,可使器件的外殼溫度降低高達25°C,比市場上其他廠商的碳化硅產(chǎn)品的壽命長3倍。 “溝槽輔助平面柵”技術vs平面柵與溝槽柵 (圖片來源:納微芯球) “溝槽輔助平面柵”技術能使碳化硅MOSFETs的RDS(ON)受溫度影響小,在整個運行范圍內(nèi)的功率損失降到最低。在高溫的運行環(huán)境下中,搭載這一技術的碳化硅MOSFETs,與競爭對手相比,RDS(ON)降低高達20%。 此外,所有的GeneSiC MOSFETs在已公布的100%耐雪崩測試中其耐受能力最高,且短路耐受時間延長30%,以及擁有穩(wěn)定的門極閾值電壓便于并聯(lián)控制,因此非常適合高功率并需要快速上市的應用場景。 納微半導體最新發(fā)布的4.5kW高功率密度AI服務器電源參考設計,基于CRPS185外形尺寸,其采用了額定650V、40mΩ的GeneSiC G3F FETs,用于交錯CCM TP PFC拓撲上。與LLC級的GaNSafe?氮化鎵功率芯片一起,讓這款電源實現(xiàn)了138 W/inch3的功率密度和超過97%的峰值效率,輕松達到歐盟目前強制執(zhí)行的“鈦金+”效率標準。 針對電動汽車市場,納微半導體基于1200V/34mΩ(型號:G3F34MT12K)的G3F FETs,打造了一款22kW、800V雙向車載充電機(OBC)+ 3kW DC-DC轉換器的應用,能夠實現(xiàn)3.5kW/L的超高功率密度和95.5%的峰值效率。 納微半導體碳化硅技術和運營高級副總裁Sid Sundaresan博士表示,“憑借著可靠性和高功率高壓系統(tǒng)下的魯棒性,G3F GeneSiC MOSFETs為碳化硅性能標定了高效、可低溫運行的新基準。 G3F碳化硅MOSFETs的開關頻率高達600 kHz,硬開關品質因數(shù)比競爭對手高出40%。納微正在不斷拓展碳化硅的性能邊界?!?/p>

發(fā)布日期: 2024-06-11

文章來源: 半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)

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整合編輯: 何艷艷